植硅体广泛存在于现代植物、土壤、沉积物和古代陆相沉积岩中，在地球科学和考古学等领域具有广阔的研究与应用前景。
国际植硅体学术研讨会是国际同行进行植硅体研究和学术交流的重要平台，该系列学术会议由总部设在美国的国际植硅体研究学会组织和发起，每2年在全世界范围内举办一次学术研讨会。自1996年以来已经举办了10届，会议举办地为比利时、西班牙、法国、英国、美国、俄罗斯等。本届会议将首次在亚洲地区中国举办。
“第十一届国际植硅体学术研讨会”的举办将推动国内外高校、研究所在植硅体领域的共同发展，促进相关学科建设及人才培养，增强植硅体与地质学、考古学领域的交叉融合，中国地质大学（武汉）拟于2018年9月14日至9月16日在武汉举行“第十一届国际植硅体学术研讨会”，诚邀海内外从事植硅体研究相关的地球科学、环境科学与考古学界同行参会交流，相关事宜如下。
一、会议时间：2018年9月14日—16日
9月13日：中国地质大学（武汉）接待中心报到；
9月14日—16日：学术交流（含参观地大逸夫博物馆和湖北省博物馆）。
二、会议地点：中国地质大学（武汉）八角楼会议中心
三、会议网站：
四、会议主要议题：
国际植硅体学会组织吸收新会员及委员会选举。本届会议主要交流以下科学主题：植硅体形态鉴定与分类标准；表土植硅体及其环境意义；化石植硅体与古环境重建；植硅体、淀粉粒与环境考古；植硅体硅碳循环与14C测年；现代植硅体响应全球变化等领域的最新研究成果。
五、交流形式：
包括口头报告（含主题）和墙报展版两种方式：
主题口头报告限30分钟（包括提问10分钟），报告采用多媒体形式；
一般口头报告限15分钟（包括提问5分钟），报告采用多媒体形式；
墙报展版规格：120 cm × 90 cm（自备，每人限2版内）；
会议将编辑印刷论文摘要集，论文摘要提交截止期限为2018年7月1日。论文摘要文件格式为word文档，具体内容包括：题目、作者姓名、工作单位、邮政编码、论文摘要、关键词等。具体格式为：Title (Times New Roman, 12 point, bold)、Authors (Times New Roman, 10 point)、Affiliations (Times New Roman, 10 point)、Abstract text (Times New Roman, 10 point, less than 350 words)、References (Times New Roman, 8 point, less than 5 references)。
六、会议费用：
会议注册费、住宿预订、回执表等见会议网页的第一轮通知。
七、联系方式：
顾延生：武汉市，鲁磨路388号，中国地质大学（武汉）环境学院；邮编：430074；
电话：027-67883160；手机：13986038370；E-mail：ysgu@cug.edu.cn
中国地质大学（武汉）环境学院
中国地质大学（武汉）科学技术发展院
中国地质大学（武汉）国际合作处
2018年6月15日
